Die Kulturstiftung des Freistaates fördert im kommenden Jahr bis zu 44 In- und Auslandsaufenthalte - für Bildende Künstler auch in New York, Columbus/Ohio (beide USA), Peking (China) und Hanoi (Vietnam), für Autoren in Tschechien, der Slowakei, Polen oder Ungarn.
Bis zu 30 Stipendien haben keine Ortsbindung. Damit sollen sächsische Künstler wertvolle Einblicke in andere Kulturräume erhalten, hervorragende Leistungen gefördert und die Arbeit an neuen Projekte unterstützt werden. Die Stipendien umfassen zwischen 1000 und 2000 Euro monatlich für zwei bis maximal zwölf Monate. Seit 1993 wurden damit bisher 640 Stipendien vergeben.
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